हेस्टेलोय सी-22 बांधनेवाला पदार्थ
HASTELLOY C-22 में ऑक्सीकरण मीडिया में समान संक्षारण के लिए C-4 और C-276 की तुलना में बेहतर प्रतिरोध है, और इसमें उत्कृष्ट स्थानीय संक्षारण प्रतिरोध है। HASTELLOY C-276 में ऑक्सीकरण और मध्यम कम करने वाले संक्षारण के लिए अच्छा प्रतिरोध है, और इसमें उत्कृष्ट तनाव प्रतिरोध है। संक्षारक क्षमता. HASTELLOY C-2000 ऑक्सीकरण और अपचायक दोनों वातावरणों में उत्कृष्ट समान संक्षारण प्रतिरोध के साथ सबसे व्यापक संक्षारण प्रतिरोधी मिश्र धातु है।
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विवरण
HASTELLOY C-22 में ऑक्सीकरण मीडिया में समान संक्षारण के लिए C-4 और C-276 की तुलना में बेहतर प्रतिरोध है, और इसमें उत्कृष्ट स्थानीय संक्षारण प्रतिरोध है। HASTELLOY C-276 में ऑक्सीकरण और मध्यम कम करने वाले संक्षारण के लिए अच्छा प्रतिरोध है, और इसमें उत्कृष्ट तनाव प्रतिरोध है। संक्षारक क्षमता. HASTELLOY C-2000 ऑक्सीकरण और अपचायक दोनों वातावरणों में उत्कृष्ट समान संक्षारण प्रतिरोध के साथ सबसे व्यापक संक्षारण प्रतिरोधी मिश्र धातु है।

हेस्टेलॉय सी22, जिसे मिश्र धातु सी22 के रूप में भी जाना जाता है, एक बहुमुखी ऑस्टेनिटिक निकल-क्रोमियम-मोलिब्डेनम-टंगस्टन मिश्र धातु है, जिसमें गड्ढे, दरार संक्षारण और तनाव संक्षारण क्रैकिंग के लिए बेहतर प्रतिरोध है। उच्च क्रोमियम सामग्री ऑक्सीकरण मीडिया को अच्छा प्रतिरोध प्रदान करती है जबकि मोलिब्डेनम और टंगस्टन सामग्री मीडिया को कम करने के लिए अच्छा प्रतिरोध प्रदान करती है। इस निकल स्टील मिश्र धातु में गीले क्लोरीन और नाइट्रिक एसिड युक्त मिश्रण या क्लोरीन आयनों के साथ ऑक्सीकरण एसिड सहित जलीय मीडिया के ऑक्सीकरण के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध है। अन्य संक्षारक हास्टेलॉय सी -22 में ऑक्सीकरण एसिड क्लोराइड, गीले क्लोरीन, फॉर्मिक और एसिटिक एसिड, फेरिक और क्यूप्रिक क्लोराइड, समुद्री जल, नमकीन और कई मिश्रित या दूषित रासायनिक समाधान, कार्बनिक और अकार्बनिक दोनों के लिए प्रतिरोध है। यह निकल मिश्र धातु उन वातावरणों के लिए इष्टतम प्रतिरोध भी प्रदान करता है जहां प्रक्रिया धाराओं में कम करने और ऑक्सीकरण की स्थिति का सामना करना पड़ता है। यह बहुउद्देश्यीय संयंत्रों में फायदेमंद है जहां ऐसी "परेशान" स्थितियां अक्सर होती हैं।
यह निकल मिश्र धातु वेल्ड ताप-प्रभावित क्षेत्र में अनाज-सीमा अवक्षेपों के निर्माण का प्रतिरोध करता है, इस प्रकार इसे वेल्डेड स्थिति में अधिकांश रासायनिक प्रक्रिया अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाता है।

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